電子半導體廠在線鈉離子監測儀 超純水檢測專用于超純水系統的高靈敏度的檢測，其核心功能是實時監測水中痕量ppb級鈉離子濃度，避免微量污染影響芯片良率，適用于半導體超純水制備、晶圓清洗等場景。其低維護量、抗污染特性及0.23μg/L檢測下限，適配半導體行業對超純水質量的嚴苛要求。

電子半導體廠在線鈉離子監測儀 超純水檢測

儀器介紹

XT-NA+型在線鈉離子監測儀采用電極法測量，可用于實時監測水體中鈉離子的濃度，主要應用于電力與能源行業、環保與水處理、電子半導體等領域。具體包括監測電廠中鍋爐給水、蒸汽冷凝水、循環水中的鈉離子含量，工業廢水回用中氧化鋁生產回水的鈉監測，實現水質合格回收與超標外排的自動控制，超純水制備系統用于晶圓清洗、蝕刻等工藝的超純水鈉離子監測。

技術特點

采用恒壓水樣設計，保證堿化效果平穩；

創新的流路系統，保證測量快速準確；

電子半導體廠在線鈉離子監測儀 超純水檢測內置標定杯，方便進行標定；

二點標定，保證測量準確；

支持自動校準、自動清洗、自動數據存儲及多通道檢測，減少人工干預；

無需預處理樣品，適合24h連續在線監測；

隔離的4～20mA電流輸出，通訊接口可選擇RS-485，便于接入自動化控制系統；

程序設計簡單，操作界面清晰，保證用戶能直接上手操作。

典型應用場景

電力行業

鍋爐給水與蒸汽系統：實時監測鍋爐給水、蒸汽凝結水中的鈉離子濃度，預防水垢生成和設備腐蝕。

循環冷卻水系統：分析冷卻水鈉含量，避免因水質劣化導致的換熱效率下降降。

化工與石油行業

鹽水精制與鈉離子電池生產：監測精制鹽水純度及鈉離子電池電解液濃度，優化生產工藝。

化工流程水監測：控制反應釜、管道等環節的鈉離子含量，防止雜質干擾化學反應。

半導體與電子工業

超純水制備系統：用于晶圓清洗、蝕刻等工藝的超純水鈉離子監測（靈敏度達0.01μg/L），防止微量污染影響芯片良率。

技術指標

產品型號：XT-NA+

測量范圍：2~9.00pNa，0.23μg/L~2.30g/L，0.00~14pH

顯示方式：彩色液晶屏顯示，耐溫至80℃不變黑

精 確 度：±0.05pNa或±5µg/L（在校準溫度的±10℃以內）

分 辨 率：0.01pNa或0.1μg/L；

溫補范圍：0～60℃

運行條件：流量100—300mL/min，溫度5～50℃，壓力50-300Kpa，水樣不大于5微米（無膠狀物，無油脂）

環境溫度：0-45℃，85%RH不結露

繼 電 器：標配2組，可擴展6組，常開觸點

電流輸出：4～20mA輸出

數字輸出：RS-485數字通訊

供電電源：AC220V，50HZ

安裝方式：面板開孔/壁掛安裝